光刻机作为业界最顶端的光刻机产品，当前只有ASML能做得出，因此，ASML在这一领域拥有100%。目前，ASML的EUV光刻机已经进入3nm节点，就连曾经光刻机领域的龙头老大——尼康都不是ASML的对手。
当前，尼康还停留在14nm节点，而作为我国唯一光刻机巨头的上海微电子，当前更是只有90nm节点光刻机。那么，国产光刻机如何才能实现突破呢？浸润式光刻机技术，是一个重要的光刻机突破口，一旦攻克这一难题，芯片有望进入10nm时代。而在当初，ASML能够实现弯道超车，也是依靠这一技术。
1984年ASML刚刚独立时，还是一个名不见经传的小角色。在当时，占据光刻机市场将近60%份额的尼康，是业界的霸主，而佳能则排名第二位。虽然，经过不断的追赶与对美国光刻机巨头SVGL的收购，到2000年，ASML的在光刻机市场的占比增长至37%，取代佳能成为行业第二。
但是，彼时的ASML与尼康之间仍有着难以跨越的差距。这时，台积电为追求更高的精度提出了浸润式技术，并在被尼康拒绝之后，选择与ASML合作。最终，在2004年，ASML凭借着193nm浸没式技术，打了一场漂亮的翻身仗。如今，ASML在光刻机市场占有64%的份额，而尼康则仅有13%。
那么，浸润式技术究竟有何神奇之处？光刻机市场如今共有三大光源，汞灯光源、DUV光源与EUV光源。其中，汞灯光源早已是20年前的技术，而DUV光源的当前的使用还是很普遍。不过，DUV光源在进入到F2阶段时遇到困难，无法实现比157nm更高的精度shadowrocket小火箭怎么使用。
而浸润式技术的提出则解决了这一问题。以水作为光刻机的介质，利用水的折射，从而将波长变小，以追求更高的精度。最终，浸没式技术能够将193nm波长的光源，等效为134nm波长光源。通过这一技术，光刻机不仅能达到10nm节点shadowrocket添加节点iplc，甚至是7nm节点。
而当前，上海微电子便是在浸润式技术上努力，其在2021年，将交付首台28nm浸润式光刻机shadowrocket小火箭怎么使用。据悉，经过多次操作，该光刻机也能够实现7nm芯片的制造，国产光刻机迎来了曙光。也希望该光刻机能尽快与大众见面，解决国产芯片的燃眉之急。shadowrocket添加shadowrocket小火箭怎么使用节点iplc
